硅片降氧降硬质点涂层工艺研发

发布时间:2018-10-15 来源:九维智晟

需求概况:

公司主要生产坩埚、石英辊道和陶瓷制品。随着光伏行业对各环节降低成本的要求越来越高,為(wèi)了让光伏发電(diàn)今早平价上网,我们于是开展了降氧降硬质点涂层工艺的研发。

在切片环节,从传统砂浆切片改為(wèi)金刚線(xiàn)切片。但是金刚線(xiàn)切片对硅锭内部的杂质硬质点要求却非常高,因為(wèi)金刚線(xiàn)非常细,切到硬质点就容易断線(xiàn),(科(kē)技成果评价)所以如何在铸锭过程中避免带入杂质,坩埚涂层质量非常关键。

另外,硅片中的氧含量直接影响其光電(diàn)转换效率的衰减速度,如何研发新(xīn)的涂层,隔绝或者降低坩埚中的氧元素渗透进硅锭,也可(kě)以大大提高硅片的性能(néng)。

我们遇到的技术难点是:

硅片的纯度非常高,想找到合适的涂层材料,在1550度的高温下(铸锭1550-1600度)不对硅料产生污染,选择的余地很(hěn)小(xiǎo)。再考虑到需要降氧,隔绝杂质,困难就更大。


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